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    快速冷卻/快速加熱樣品裝置:提升觀察和分析設備的性能

    發(fā)布時間: 2023-08-25  點擊次數(shù): 333次

    引言:
    隨著科學技術的不斷發(fā)展,觀察和分析設備在各個領域中發(fā)揮著越來越重要的作用。為了滿足對快速冷卻和快速加熱的需求,我們開發(fā)了一種創(chuàng)新的腔室單元,可應用于激光坐標測量機、激光顯微鏡、顯微鏡和X射線分析設備等各種設備中。本文將介紹這款快速冷卻/快速加熱樣品裝置的標準設備配置、產品規(guī)格及性能以及測試數(shù)據。

    標準設備配置:
    我們的快速冷卻/快速加熱樣品裝置的標準設備配置如下:

    • 室模型:20mm X 20mm(透射觀察孔:φ2mm)

    • 樣品氣氛:大氣釋放型(可選真空型)

    • 工作溫度范圍:-150℃至400℃

    • 溫度調節(jié)精度:±0.2°C至0.7°C(工作溫度范圍-150°C至400°C,設定溫度穩(wěn)定時)

    • 加熱/冷卻性能:3.5分鐘內從20°C冷卻至-150°C,1.5分鐘內從20°C升溫至250°C,實現(xiàn)最大限度減少過沖/下沖和振蕩的溫度控制性能。

    產品規(guī)格及性能:
    我們的快速冷卻/快速加熱樣品裝置具有以下產品規(guī)格及性能:

    • 室模型大小:20mm X 20mm,透射觀察孔直徑為φ2mm,可滿足多種觀察和分析需求。

    • 樣品氣氛選項:可選擇大氣釋放型或真空型,以適應不同的實驗條件。

    • 廣泛的工作溫度范圍:從-150℃至400℃,可滿足多種樣品的快速冷卻和快速加熱需求。

    • 準確的溫度調節(jié)精度:溫度調節(jié)精度在±0.2°C至0.7°C之間,確保在工作溫度范圍內的穩(wěn)定性。

    • 快速的加熱/冷卻性能:僅需3.5分鐘從20°C冷卻至-150°C,1.5分鐘從20°C升溫至250°C,可極大地提高工作效率。

    • 溫度控制性能:通過減少過沖/下沖和振蕩,確保溫度控制穩(wěn)定性,提高觀察和分析的準確性。

    測試數(shù)據:
    我們對快速冷卻/快速加熱樣品裝置進行了一系列測試,并得到了以下數(shù)據:

    • 冷卻性能測試結果顯示,從20°C冷卻至-150°C只需3.5分鐘,實現(xiàn)了快速冷卻的要求。

    • 加熱性能測試結果顯示,從20°C升溫至250°C僅需1.5分鐘,滿足了快速加熱的需求。

    • 溫度控制性能測試結果顯示,在設定溫度穩(wěn)定時,溫度調節(jié)精度可達到±0.2°C至0.7°C,確保了溫度控制的準確性。

    結論:
    我們開發(fā)的快速冷卻/快速加熱樣品裝置可有效提升觀察和分析設備的性能。其標準設備配置、廣泛的工作溫度范圍以及快速的加熱/冷卻性能使其成為各類科學實驗和研究的理想選擇。更重要的是,其準確的溫度控制性能確保了觀察和分析結果的準確性。我們相信,這款快速冷卻/快速加熱樣品裝置將為科學研究領域帶來更多新的可能性。


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