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    日本analyzer氧化鋯型氧氣濃度計(jì)原理

    發(fā)布時(shí)間: 2021-04-06  點(diǎn)擊次數(shù): 1190次

    我們的每種產(chǎn)品都有其自己的特性,但是由于其設(shè)計(jì),TB系列的應(yīng)用范圍非常廣泛,從高純氣體中的微量氧氣到真空氣氛以及燃燒廢氣中的氧氣測(cè)量。
    除了內(nèi)置2 PSA和O 2 PSA內(nèi)置產(chǎn)品外,我們還提供除常規(guī)氧氣測(cè)量外的功能產(chǎn)品,例如預(yù)混合氣體分析儀,高溫氣體濕度計(jì)和氧氣泵,以滿足用戶的需求。需要,我正在做到。

     

    氧化鋯陶瓷由于在電池的內(nèi)表面和外表面上的氧分壓不同而成為一個(gè)產(chǎn)生電壓(電池電壓)的氧濃縮電池,當(dāng)氧氣被紅色加熱時(shí),氧離子很容易在晶體結(jié)構(gòu)中移動(dòng)。
    通過使電解池內(nèi)部的氣氛與外部的樣品氣體接觸,可以基于氣氛中的氧濃度產(chǎn)生電壓。這可以由以下公式表示。

    一個(gè)公式

    E是由氧化鋯陶瓷產(chǎn)生的電壓(mV),T是電池的溫度,并且大氣中的氧氣濃度是恒定的,因此,如果電池溫度恒定,則電池電壓也是恒定的。
    樣品氣體中的氧氣濃度可以通過反算來(lái)獲知。
    因此,當(dāng)檢測(cè)池的兩側(cè)都處于大氣中時(shí),池電壓理論上變?yōu)?mV,并且隨著樣品氣體的氧氣濃度相對(duì)于大氣降低,池電壓升高。

    關(guān)于還原性氣氛的測(cè)定
    金屬的熱處理過程或還原過程是對(duì)陶瓷燒結(jié)的還原氣氛,傳感器H2氣氛中為TB,H2 +惰性氣體,CO / CO,2大氣中2 H2-1 / 2 O,2 H2O,CO + 1/2 O 2 ⇔CO 2 1×10 ^ -20 ATMO引起從解離2以測(cè)量氧分壓的下面,⇔還原氧化的判斷中,可以執(zhí)行氣氛管理。
    (“ DG-R”系列適用于高精度還原氣氛測(cè)量。)
    關(guān)于真空氣氛的測(cè)量
    該儀器測(cè)量樣氣的氧氣分壓。
    因此,即使氣體中的氧濃度相同,如果壓力變化,也會(huì)根據(jù)該壓力產(chǎn)生氧分壓的電動(dòng)勢(shì)。
    例如,如果將大氣(約21%O 2)減壓至1 Torr,則大氣壓為760 Torr ,因此可以獲得21 x 1/760 = 0.027%O 2的指令。
    TB-IIF在CVD排氣管線中的記錄為1×10 ^ -3托,而TB-IIV在直接安裝真空爐中的記錄為1×10 ^ -6托。
    關(guān)于低氧燃燒的CO + H 2測(cè)量
    CO + H2%可以通過在m值(空燃比)為1的燃燒條件下CO + H2 / CO 2 + H2O解離生成的氧分壓測(cè)量為10 ^ -10或更小來(lái)測(cè)量。或更少的直接燃燒氣氛爐中
    由于1%(CO + H2)+ 0.5%O 2 = 1%(CO + H2O),因此1%(CO + H2)可用-0.5%O 2代替,-O 2%的范圍表示。
    另外,如果目標(biāo)是m值為1的等效燃燒,我們可以以零點(diǎn)為中心制造-02%到0到+ 02%的范圍

    當(dāng)將氧化鋯圓盤加熱至恒定溫度并向鉑電極施加恒定電壓時(shí),由于泵浦作用,以氧離子為載體的電流流過,帽中的氧被釋放,并且與氧平衡的電流會(huì)從小孔中擴(kuò)散出來(lái),并會(huì)流動(dòng)。(請(qǐng)參閱下面的圖1和圖2)
    與該氧氣濃度變化相對(duì)應(yīng)的電流變化被放大,并通過儀表中的折線軟件線性化以顯示氧氣濃度。

     

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